Un consorcio entre la industria y tres laboratorios norteamericanos han mostrado un prototipo de máquina que, para 2006, sería capaz de construir chips no sólo más pequeños, sino que también aventajarían en velocidad a los actuales, pues podrían llegar a ser hasta diez veces más rápidos.
Utilizando la denominada Litografía Ultravioleta Extrema (EUV) para trazar pequeñas líneas de circuito en las microplaquetas de silicio, la tecnología podría permitir a las compañías imprimir circuitos de hasta 0,03 micras.
El consorcio está formado por compañías fabricantes de semiconductores, entre las que se encuentran Intel, Motorola, AMD, Micron Technology, Infineon Technologies e IBM, y por los laboratorios Lawrence Berkeley National Laboratory, Lawrence Livermore National Laboratory y Sandia National Laboratories.
Según Chuck Gwyn, director del programa para la colaboración, denominado EUV Limited Liability Company (LLC), nuestro próximo paso es transferir la tecnología a los fabricantes de equipamiento de litografía para el desarrollo de versiones beta y herramientas de producción.
Los procesadores que utilicen la tecnología EUV se espera que alcancen velocidades de hasta 10 GHz en 2006. Así, la máquina, conocida como Engineering Test Stand, será utilizada por los socios de LLC y los suministradores de herramientas litográficas durante el próximo año para perfeccionarla y conseguir que esté lista para la creación de máquinas prototipos comerciales que satisfagan las necesidades de la industria para una gran producción de microprocesadores. El prototipo debería empezar en un circuito de 0,07 micras.
Kevin Krewell, analista de MicroDesign Resources, opina que parece que la tecnología es correcta y sólida, ya que los mayores fabricantes la están soportando.
