La arquitectura para el desarrollo de aplicaciones definida por el OMG (Object Management Group), MDA (Model Driven Architecture), acaba de recibir una importante impulso con el lanzamiento por parte de Compuware de OptimalJ 3.0, la nueva versión de su herramienta de desarrollo de aplicaciones J2EE.
La compañía reunió a la prensa especializada en su centro de desarrollo en Amsterdam para dar a conocer las nuevas características y funcionalidades de esta solución que, según un estudio realizado por The Middelware Company se traduce en un incremento de la productividad en el proceso del desarrollo del 35 por ciento con respecto a las herramientas IDE (Integrated Development Environment) y que, de acuerdo con los análisis realizados por EDS, permite una reducción significativa de la de escritura manual de código: en concreto y para la misma aplicación, mientras que el desarrollo con una herramienta IDE -en este caso Pet Store- requirió la escritura manual de 14.273 líneas de código, el trabajo con OptimaJ 3.0 disminuyó esta cifra hasta las 610 líneas; es decir, con Optima J 3.0 el desarrollador escribe de forma manual entre una y cuatro líneas de Java por cada 200 líneas generadas automáticamente.
Estos avances, que tienen una repercusión directa tanto en el coste como en el riesgo asociado a los procesos de desarrollo, son posibles gracias a un entorno fundamentado en modelos y basado en patrones que, además de permitir el desarrollo de aplicaciones mucho más acordes a los requirimientos del negocio, reducen el coste y tiempo asociado a su mantenimiento y actualización al mejorar la calidad y las posibilidades del reutilización del código. “OptimalJ 3.0 responde al imperativo actual de construir sistemas pensando en que van a cambiar, no en que van durar”, afirmó el director de gestión de producto de Compuware, Edwin Schumacher, quien subrayó que “mientras que en la mayoría de las herramientas de desarrollo no existe un conexión entre modelos y patrones, la transformación de los modelos en aplicaciones en Optima J se realiza justamente gracias a los patrones”.
En este sentido y aunque Optima J 3.0 incorpora una serie de patrones propios escritos en TPL y basados en los 21 definidos por Sun, también cuenta con interfaces para posibilitar su modificación. Por otra parte la solución, que en su nueva versión suma a la ediciones anteriormente disponibles (Profesional y Architect Edition), una edición (Developer) específica para estos profesionales, permite a la comunidad de desarrollo el trabajo en equipo en tiempo real.
Destacar por último que, además de garantizar su integración con aplicaciones legadas al añadir el soporte IMS/TM al ya existente CICS/COBOL, OptimalJ 3.0 se integra con los entornos de desarrollo integrado IDE como IBM WebSphere Studio Application Developer y Sun ONE Studio, e incluye su propio IDE asegurando el soporte de los servidores de aplicaciones, las herramientas de modelado y las bases de datos más extendidos del mercado.
